オスミウムコーター　NEOC-PRO

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オスミウムコーター

 

概要

メイワフォーシス製 オスミウムコーター NEOC-PRO は、プラズマ CVD 方式により極薄で極めて均一なオズミウム（Os）導電性薄膜を非導電性試料の表面にコーティングする前処理装置です。

従来のゴールド（Au）やプラチナ（Pt）のスパッタコーティングで発生する金属粒子（粒状構造）の結晶化・粒子感を抑え、FE-SEM（高解像走査型電子顕微鏡）による数十万倍以上の超高倍率観察においても、極微細な表面組織を極めて鮮明かつ正確に観察することを可能にします。

主な特長

  • 無粒子・超極薄コーティング（Os薄膜）： プラズマ CVD 作用により、数 nm 以下の超極薄膜でも粒子感のない滑らかで均一な導電膜を形成。超高倍率 SEM 観察に最適。
  • 優れた被覆性（段差・三次元形状）： 気相反応プロセスにより、深い凹凸や多孔質体、複雑な三次元構造の隙間まで回り込んで均一に保護導電コート。
  • 自動真空・放電制御： マイクロプロセッサによる自動制御機構を搭載し、再現性の高いコーティングプロセスを実現。
  • 推奨標準処理条件（ガイドライン）： 処理電流：5 mA、真空度：10 Pa、放電時間：90 秒（Os四酸化物ガス使用環境）。

主な仕様

【仕様に関するご注意】
実際の装置構成や仕様はマニュアルの標準仕様と一部異なる場合があります。現在の詳細な仕様や利用条件については、装置管理者までご確認ください。
メーカー メイワフォーシス株式会社
型式 NEOC-PRO（オスミウムコーター）
コーティング方式 プラズマ CVD 方式（Os薄膜）
推奨処理条件 放電電流 5 mA ／ 真空度 10 Pa ／ 放電時間 90 秒
ターゲット物質 オスミウム（Os）
主な用途 FE-SEM 高倍率観察用の非導電性試料（生物・材料・高分子等）導電処理
設置場所 1-111

マニュアル・利用案内