イオンスライサ　EM-09100IS | AEM

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概要

日本電子製 イオンスライサ EM-09100IS は、ターボ分子ポンプ（TMP）で排気される真空チャンバー内で、マスキングベルト（遮蔽材）を試料面上にセットした状態でアルゴンイオンビームを垂直または傾斜照射し、透過型電子顕微鏡（TEM）観察用の薄膜試料を作製する精密試料作製装置（イオンミリング装置）です。

機械的研磨・切断によって生じる加工歪みを最小限に抑えた薄膜試料の作製が可能で、主に断面試料（クロスセクション）の作製に使用されます。イオン加速電圧 1〜8 kV の可変制御と、ソフトウェア制御の自動研磨機能により、バルク試料・断面試料・最表面平面試料など多様な試料形態に対応します。

主な特長

断面（クロスセクション）試料作製に特化： マスキングベルトと傾斜イオンビームの組み合わせにより、電子線透過可能な超薄膜断面領域を精密かつ選択的に形成。約 100 µm 厚の前処理試料から TEM 観察用薄膜領域を作製。
広範囲のイオン加速電圧制御（1〜8 kV）： 加速電圧を 1〜8 kV の範囲で調整可能。低加速電圧（1〜3 kV）での仕上げミリングにより、アモルファス損傷層を低減したクリーンな薄膜試料が得られる。
CCD カメラによるミリングモニタリング： チャンバー内に設置された CCD カメラにより、ミリングの進行状況をリアルタイムでモニタリング。試料の穿孔や薄膜化状態を観察しながら操作可能。
多様な試料形態に対応： バルク試料・断面試料（クロスセクション）・最表面平面試料の各前処理工程と試料ホルダー搭載手順に対応した操作体系を備える。
ソフトウェアによる自動・再現性の高い制御： 加速電圧・Ar ガス流量・イオン源傾斜角・傾斜モード（無傾斜 / 片方向 / 双方向）・切替間隔などをソフトウェアで一元管理。ミリング条件の保存・呼び出しが可能。

主な仕様

【仕様に関するご注意】
実際の装置構成や仕様はマニュアルの標準仕様と一部異なる場合があります。現在の詳細な仕様や利用条件については、装置管理者までご確認ください。

メーカー	日本電子株式会社（JEOL Ltd.）
型式	EM-09100IS（イオンスライサ）
イオン加速電圧	1〜8 kV（連続可変）
使用ガス	アルゴン（Ar）ガス（純度 99.9999 % 以上）
ミリングスピード（参考値）	最大 5 µm/min（加速電圧 8 kV、シリコン換算）
真空排気系	主排気：ターボ分子ポンプ（TMP）補助排気：ロータリーポンプ（RP）
真空計	ペニング真空計
主な用途	TEM 用断面（クロスセクション）試料作製バルク試料・最表面平面試料の薄膜化
本体寸法	幅 500 mm × 高さ 542 mm × 奥行 600 mm（本体）
設置場所	1-105

マニュアル・利用案内

【マニュアル・利用案内】
マニュアル類は非公開です。利用に関するご質問・お問い合わせは装置管理者までお気軽にご連絡ください。