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概要
Gatan(ガタン)社製 精密イオンポリッシングシステム PIPS II Model 695 は、透過型電子顕微鏡(TEM/STEM)試料作製の最終工程で使用される卓上型精密切削・イオンミリング(イオン研磨)装置です。
2基の独立制御ペニングイオンガン(PIG)から照射されるアルゴンイオンビームにより、機械研磨で生じた試料表面の加工歪み・損傷層を取り除き、広範囲で清浄な電子線透過超薄膜領域を高い再現性で作製します。
主な特長
- 超低エネルギーミリングによるダメージ最小化: 加速電圧を 0.1 〜 8.0 keV の範囲で連続調整可能。最終仕上げにおいて 500 eV や 100 eV などの低エネルギーミリングを行うことで、アモルファス損傷層を極限まで低減し高解像度観察に適した原子レベルで高品質な試料が得られます。
- 独立角度制御ペニングイオンガン(PIG)× 2基: 2つのイオンガンの照射角度を独立して ±10°(0° 近傍の超低角度照射に対応)まで設定可能。集束電極により低加速時でもビームスポット径を小さく維持。
- 迅速な試料交換(Whisperlok ロードロック): エアロック機構により、真空を保持したまま 30 秒以内でスムーズな試料交換や途中観察が可能。
- 再スパッタ汚染の防止と精度保持(DuoPost): 試料台からの二次スパッタリングによる再付着汚染を抑える専用 DuoPost マウントを採用。試料回転軸の X-Y 精密調整ステージを装備。
- AutoTerminator 自動停止機能: 試料の貫通・薄膜化を透過光量センサで自動検知し、ビーム照射および回転を安全に停止。
- カラータッチパネル操作: 各ステップで加速電圧・角度・回転速度・ビームモジュレーション(セクター切断)を変更するマルチステップレシピを管理・実行。
主な仕様
【仕様に関するご注意】
実際の装置構成や仕様はマニュアルの標準仕様と一部異なる場合があります。現在の詳細な仕様や利用条件については、装置管理者までご確認ください。
実際の装置構成や仕様はマニュアルの標準仕様と一部異なる場合があります。現在の詳細な仕様や利用条件については、装置管理者までご確認ください。
| メーカー | Gatan, Inc.(ガタン社) |
|---|---|
| 型式 | PIPS II Model 695(Precision Ion Polishing System) |
| イオン源 | ペニングイオンガン(PIG)× 2基(希土類永久磁石搭載) |
| 加速電圧 | 0.1 〜 8.0 keV(連続可変) |
| 照射角度 | 各ガン独立 ±10°(0° 近傍の低角度照射対応) |
| 試料回転速度 | 1 〜 6 rpm(セクターミリング・ビーム変調制御対応) |
| 試料フォーマット | Φ3 mm TEM ディスク / 凹部加工試料 / 単面・両面ミリング |
| 真空システム | 分子ドラグポンプ(80 L/s)+ オイルフリー多段ダイアフラムポンプ |
| 制御機能 | 前面カラータッチパネル LCD、AutoTerminator(自動停止機能) |
| 本体寸法・重量 | 510 (W) × 580 (D) × 760 (H) mm / 約 38 kg |
| 設置場所 | 1-105(PIPS II (B) として配置) |
マニュアル・利用案内
【マニュアル(学内限定)】
📄 PIPS II Precision Ion Polishing System 取扱説明書(PDF・学内限定)